SB200 および Si8000間での特性インピーダンス パラメータの転送


アプリケーション ノート 179

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SB200 は特性インピーダンス構造を層構成の層に追加する機能を備えています。SB200 Polar Instruments Si8000 特性インピーダンス フィールド ソルバーに統合されていますので、構造の特性インピーダンス値をボタンをクリックするだけで計算することができます。

構造パラメータを Si8000 クイック ソルバーにコピーして処理(例えば Si8000 ゴールシーク機能で)し、その計算値を SB200 に 貼り付けて層構成に挿入することもできます。

このアプリケーション ノートでは SB200 Si8000間で特性インピーダンス パラメータをやりとりし、正しいインピーダンス値の特性インピーダンス構造を層構成層に加える手順について説明します。

1. SB200 バージョン 2.00 および Si8000m バージョン 3.00 を使用していることを確認します。

2. SB200 および Si8000 双方のアプリケーションを起動します。

3. SB200 を選択し、サンプル層構成を開きます。

4. 電気層を選択(クリック)します。それを層 1 とします。

層構成の 3-D 表示

(ヒント 最初にツールバーのアイコンで 2D 表示を選択すると簡単にできます。)

層構成の 2-D 表示

5. Controlled Impedance タブ(青の + マークが表示されます)を選択します。

Controlled Impedance タブ

6. 構造の追加 — coated microstrip とします。

SB200 構造管理ダイアログ

コピー・貼り付けのアイコン(Si8000 とパラメータをやりとりする)が SB200 のツールバーの右に表示されます。

コピー/貼り付けパラメータ ボタン

7. 目標インピーダンスを特性インピーダンス区画の下にある欄に設定します(この場合は 50 オーム)。.

SB200 特性インピーダンス ウインドウ

8. 導体幅など必要に応じてパラメータを入力します。

9. コピー アイコンで Si8000 のクリックボードに貼り付けます(赤の矢印の左側のアイコン)。

10. Si8000 アプリケーションを選択します。

11. (右側の)「Paste From SB200」 ボタンで SB200 から特性インピーダンスのパラメータを貼り付けます
(Si8000 が自動的に正しい構造を読み込みます)。 選択した単位が正しいか確認します。.

Si8000 パラメータ画面

12. 線路幅のゴールシーク...(Lower Trace Width ボタンをクリックします。目標値に達しない場合には戻って層構成を調整します。

13. Copy to SB200 ボタンでパラメータを SB200 にコピーし、SB200 に戻る。そこで情報(Paste From Si8000) を貼り付けて層構成に戻します。

14.  Si8000 パラメータを SB200 に戻し、計算ボタンCalculate を選択して現在の構造を再度計算します。

 
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